| 产品名称：钛坝注高纯坝注钛铌坝注锆靶、镍坝注铬靶（热等静压）、铌坝注铌合金坝注钽靶 |
| 商标：TA1、Ti4N、Ti-Nb 、Zr702、Ni、Gr、Nb1、Nb-Zr10%、Ta1 |
| 纯度：99.9%-99.99% |
| 规格： Φ70×7×L900--2000mm , Φ89.4mmX7.62mmX1728mm Φ89.4mmX15mmX1728mm,Φ80mmX10mmX1728mm,及其它特定尺寸 |
| 镀膜靶材是通过磁控溅射、多弧离子镀或其他类型的镀膜系统在适当工艺前提下溅射在基板上形成各类职能薄膜的溅射源。单一说的话，靶材就是高速荷能粒子轰击的指标资料，用于高能激光兵器中，分歧功率密度、分歧输出波形、分歧波长的激光与分歧的靶材相互作用时，会产生分歧的杀伤粉碎效应。例如：蒸发磁控溅射镀膜是加热蒸发镀膜、铝膜等。更换分歧的靶材（如铝、铜、不锈钢、钛、镍靶等），即可得到分歧的膜系（如超硬、耐磨、防腐的合金膜等）。 |
| 宽泛用于五金,装璜,工具,陶瓷,高尔夫球优等镀膜行业. |
| 提供： 1、产品质量证明书，宝钛试验中心或西北有色金属钻研院检测汇报原件； 2、满足客户各类的包装要求； 3、客户在收到货后30天内提出异议，我们将为您提供退换货服务； 4、最快的发货速度； 5、可凭据的要求和图纸加工各类规格靶材 |
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